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HydroFORM扫查器
相控阵腐蚀成像探头优势特性
•局部水浸技术 •耦合效果得到优化,可以检测粗糙的表面 •大面积覆盖 •避免了楔块反射 •方便的表面回波同步,用于外壁和内壁腐蚀的监测
典型应用
I4探头
相控阵腐蚀成像探头应用
•可以对中等大小及大面积区域进行手动或自动腐蚀检测,完成对剩余壁厚或内部腐蚀材料的测量
双晶线性阵列(DLA)腐蚀探头
优势特性
•一发一收技术 •极大地减少了表面回波,从而优化了表面分辨率 •可拆装式弧面延迟块 •内置灌溉 •环部件可调节,增强了稳定性和耐磨性 •与双晶UT技术相比,DLA具有更高的探出率、更好的成像效果、更大的覆盖范围,以及增强的数据点密度
典型应用
REX1探头 •可以对较小及中等大小的区域进行手动或自动检测,完成对剩余壁厚或内部腐蚀材料的测量
ULT1探头 •可以对较小及中等大小的区域进行手动检测,完成对表面温度高达150 °C工件的剩余壁厚或内部腐蚀区域壁厚的测量。
奥氏体、镍及其它粗晶合金